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浮現02-Ⅷ Emerge 02-Ⅷ
版畫 Print
武藤正悟 Muto Shogo
77.0 x 96.0 cm
登錄號 09800529
武藤 正悟(Muto, Shogo)1966年出生於日本秋田縣,1990年畢業於東京大學。1991年開始在美國、日本、波蘭、匈牙利、泰國、葡萄牙、保加利亞與台灣等地參與國際聯合展覽。他曾於2005年在西班牙堡壘畫廊講習班(Taller Galeria Fort)與2006 年日本銀座O藝術空間(O Gallery)舉辦過個展。同時隸屬於日本版畫協會會員、國際印刷交流協會(印刷Zaurus)成員、日本美術家協會會員與印刷學會會員。
2002年的作品〈浮現02-Ⅷ〉,曾入選「中華民國第11屆國際版畫及素描雙年展」版畫類。作品以兩張合併版畫,結合金屬凹凸版的技法表現。畫面以鮮豔的洛黃底色襯托出精緻而富情感的線條,多層次的灰階與積聚而成的黑色面積,由內而外逐漸生長出的細線,群聚開放出燦爛似火花般的圖像。畫作充滿抽象的內向語彙,像是思緒的絲線蔓延,又彷彿是靈光瞬間。
出處:張瀞予,國立臺灣美術館典藏詮釋資料,2020。
藏品詳情
作品名稱
浮現02-Ⅷ
類別
版畫
媒材
併用版畫(凸,凹版)/木版,金屬版/直刻,蝕刻(硬防腐蝕劑腐蝕,照相腐蝕)
創作年代
2002年
組件數量
1件
尺寸
77.0 x 96.0 cm
版次
2/10
登錄號
09800529
入藏年
2009
授權方式
本館可授權進行非營利使用行為
來源
中華民國第11屆國際版畫及素描雙年展
收藏單位
國立臺灣美術館
作者詳情
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403 臺中市西區五權西路一段 2 號 | 04-23723552
資料更新日期:2024年4月19日 西元2021年 版權所有
授權清單 vertical_align_top